索和思考,而当时市场主流还处于1k时代,这在当时简直是无法想象的。
但是。日本就以此为目标,确立了超大规模集成电路的技术演进路径,而当时全球主流仍处于晶体管技术路线中。
1975年日本人以通产省为中心的“下世代电子计算机用研究开发计划”构想,设立了官民共同参与的“超大规模集成电路研究开发政策委员会”。
第二,官产学三位一体,制定国家项目进行重点攻关。
1976年日本启动研究项目。1976年3月经通产省c大藏省等多次协商,日本政府启动了“制法革新”国家项目。
由日本政府出资320亿日元,日立富士通c三菱c东芝五大公司联合筹资400亿日元。
总计投入720亿日元为基金,由日本电子综合研究所和计算机综合研究所牵头,设立国家性科研机构技术研究所。
日本人官产学三位一体,协调发展,通力合作,齐心协力,针对高难度c高风险的研究项目,研究所组织多个实验室以会战的方式,调动各单位的积极性,发挥良性竞争,各企业之间技术共享合作,共同提高量产成功率。
期间申请的实用新型专利和商业专利,分别达到1210件和347件。
研发的主要成果包括各型号电子束曝光设备,采用紫外线c射线c电子束的各型制版复印设备c干式蚀刻设备等,取得了一系列引人注目的成果。
这为美日半导体战争,打下了坚实的产业和科研基础。
第三,举国体制,突破产业链上下游,特别是半导体关键生产制造设备。70年代日本虽然可以生产内存芯片。
但是,最为关键的生产制程设备和原材料主要来自米国,为了补足短板,日本人组织800名技术人员进行重点攻关,共同研制高性能的国产化生产设备,不仅实现64和256的商用化,也实现1商用化的关键生产制程设备。
在生产制程设备攻关体系中,日本人团结一致c齐心协力,这种举国体制的国家力量令人震惊。
这为后期美日半导体战争中,以集团军作战的方式在256的决定性战斗中一举打垮米国50家半导体联盟的战争中立下赫赫战功。
第一研究室,日立公司,负责电子束扫描设备与微缩投影紫外线曝光设备,室长:右高正俊。
第二研究室,富士通公司,负责研制可变尺寸矩形电子束扫描设备,室长:中村正。
第三研究室,东芝公司,负责扫描设备与制版复印设备,室长:武石喜幸。
第四研究室,电气综合研究所,对硅晶体材料进行研究,室长:饭塚隆。
第五研究室,三菱电机,开发制程技术与投影曝光设备,室长:奥泰二。
第六研究室,公司,进行产品封装设计c测试和评估研究,室长:川路昭。
直到2010年之前,日本的半导体设备指数和米国费城半导体指数值,是评估全球半导体行业景气度的两个关键指标。
1978年日本人发明64k,其问世标志着超大规模集成电路时代的来临,硅片直径为100125,芯片面积为2662,集成度为155000。主要技术为循环位线c折叠数据线。
1980年日本人发明256k,硅片直径为125150,芯片面积为3482,集成度为555000,主要技术为三层多晶硅和冗余技术。
在推进产业化方面,日本政府为半导体企业提供高达16亿美金的巨额资金,包括税赋减免c低息贷款等资金扶持政策,帮助日本企业打造集成电路产业集群,并最终一举赢取第一次世界大战美日半导体战争的胜利。
在科技红利之有效研发投入上,
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