返回第48章 绝密研究所(第2/3页)  硬科技巨头首页

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    封装厂进行圆片减薄、贴膜、划片、粘片、打线、注塑、切金、烘干、镀锡等等操作后,封装完成。

    芯片有些功能和性能在中测时无法检验的,需要进行成测(fal test,简称ft),成测完成的芯片,即可入产品库,转入市场销售了。

    芯片的研发过程,是一个多次循环迭代的过程,测试验证过程中发现问题,就需要返回修改设计,然后再次测试验证;后端版图实现过程中,如果时序、功耗、面积、后仿真等通不过,也可能要返回原始设计进行修改;芯片投片出来后,测试性能指标和可靠性达不到设计要求,需要分析定位问题,修改设计,再次投片验证,等等。

    芯片研发环节多,投入大,周期长。任何一个细节考虑不到或者出错,都有可能导致投片失败,技术研发充满了不确定性,可能导致时间拖延及投片失败,因此,一个成熟产品的研发,可能需要多次的投片验证,导致周期很长。

    芯片设计的规模比较大,系统复杂,为了减小投片风险,系统设计和测试验证的工作十分重要,一方面依靠强大的eda工具,另一方面依靠经验和人员时间投入。

    芯片转入量产后,如果成品率不稳定或低于预期,需要与代工厂分析原因,进行工艺参数调整,多次实验后,找到最稳定的工艺窗口,提高芯片的可靠性和良率,降低成本。

    常见的芯片投片方式有工程批(fullask)和多项目晶圆(ulti project wafer,简称)两种方式。

    随着制造工艺水平的提高,在生产线上制造芯片的费用不断上涨,一次06微米工艺的工程批生产费用就要20-30万元,而一次018微米工艺的工程批生产费用则需要60-120万元,如果采用高阶工艺,试验片成本更会呈几何倍数提高,

    例如一次7纳米工艺需要七八百万元,如果设计中存在问题,那么制造出来的所有芯片将全部报废。

    就是将多个具有相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片,流片后,每个设计品种可以得到几十片芯片样品,这一数量对于设计开发阶段的实验、测试已经足够,而实验费用就由所有参加的项目按照芯片面积分摊,成本仅为工程批的10-20,极大地降低新产品开发成本和开发风险,一般由工艺厂组织,每年定期有班次。

    虽降低了集成电路研发阶段的费用门槛,但也伴随着一些投片灵活度低、生产周期长、单位面积有限制等制约因素,具体的投片方式,需要根据设计成功率、资金预算、时间周期来具体选择。

    广华县,辉煌科技城。

    一年多时间的建设,辉煌科技城已经建立了一半,再有一年时间就可以入驻。

    辉煌科技成占地十万亩,背靠大山,预计可以入驻十万人的研究人员,此刻大山进进出出很多的挖掘机和运输车,很明显,辉煌科技建筑队正在大山里面建设研究基地。

    此刻的辉煌科技城地下五百米处有一个巨大的实验室,研究室中有着无数的高精尖设备,很多设备都是23世纪的高科技设备,具有远超21世纪设备的性能。

    但是这些设备都不是最重要的,最重要的是这个地下室里面拥有很多地球买不到的高科技设备,全套的芯片生产设备都有,有的是生化危机界面弄过来的,还有的是23世纪弄过来的设备。

    这都是辉煌科技绝密研究所,以后会有更多的超时代仪器进入这里,实验室员工都是爱丽丝复制体。

    地下研究所中,一百多名爱丽丝复制体美女都在认真地工作,她们已经成了火焰女皇最得力的助手,负责进行主神空间最高科技的研究,由于这段时间的需要,专门在此解析芯片生产中各种高科技设备。

    一根长

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